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Publikation: Zeitschriftenartikel
Characterization of Ti diffusion in PVD deposited WTi/AlCu metallization on monocrystalline Si by means of secondary ion mass spectroscopy
Grunddaten
Autoren
Einrichtung
Grunddaten
Titel
Characterization of Ti diffusion in PVD deposited WTi/AlCu metallization on monocrystalline Si by means of secondary ion mass spectroscopy
Veröffentlicht in
Microelectronics reliability : an internat. journal & world abstracting service. - Oxford [u.a.] : Pergamon Press
Erscheinungsjahr
2012
Seiten (von – bis)
1993 – 1997
Band
52
Heft-Nr.
9/10
Jahr
2012
Publikationsform
Druckschrift
Publikationsart
Zeitschriftenartikel
Sprache
Englisch
Letzte Änderung
16.05.2019 19:45:03
Bearbeitungsstatus
durch UB Rostock abschließend validiert
Dauerhafte URL
http://purl.uni-rostock.de/fodb/pub/35414
Links zu Katalogen
Autoren
Plappert, M.
Humbel, O.
Koprowski, A.
Nowottnick, Mathias
Einrichtung
IEF/Bereich Informatik