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Plasma diagnostics applying K-line emission profiles of Si and Ar  (  Dissertationsschrift  ) 
Modifications of K-line profiles due to a warm dense plasma environment are a suitable tool for plasma diagnostics since X-ray emissions strongly depend on the ion configuration an emitter environment. The plasma environment leads to a red shift increasing at higher free electron density and rising temperature. Alternatively, excited states and ionized emitter configurations lead to a blue shift. Both shifts have been taken into account for the calculation of line profiles of silicon and argon.
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