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Publikation: Zeitschriftenartikel
Soft X-ray emission spectroscopy of low-dimensional SiO2/Si interfaces after Si+ ion implantation and ion beam mixing
Grunddaten
Autoren
Einrichtung
Grunddaten
Titel
Soft X-ray emission spectroscopy of low-dimensional SiO2/Si interfaces after Si+ ion implantation and ion beam mixing
Veröffentlicht in
Physica status solidi / A. - Weinheim : Wiley-VCH
Erscheinungsjahr
2010
Seiten (von – bis)
743 – 747
Band
207
Heft-Nr.
3
Jahr
2010
Publikationsform
Druckschrift
Publikationsart
Zeitschriftenartikel
Sprache
Englisch
Letzte Änderung
17.05.2019 16:29:01
Bearbeitungsstatus
durch UB Rostock abschließend validiert
Dauerhafte URL
http://purl.uni-rostock.de/fodb/pub/32473
Links zu Katalogen
Autoren
Zatsepin, D. A.
Kaschieva, S.
Zier, M.
Schmidt, B.
Fitting, Hans-Joachim
Einrichtung
MNF/Institut für Physik (IfPH)