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Publikation: Zeitschriftenartikel

Characterization of Ti diffusion in PVD deposited WTi/AlCu metallization on monocrystalline Si by means of secondary ion mass spectroscopy

Grunddaten

Titel Characterization of Ti diffusion in PVD deposited WTi/AlCu metallization on monocrystalline Si by means of secondary ion mass spectroscopy
Veröffentlicht in Microelectronics reliability : an internat. journal & world abstracting service. - Oxford [u.a.] : Pergamon Press
Erscheinungsjahr 2012
Seiten (von – bis) 1993 – 1997
Band 52
Heft-Nr. 9/10
Jahr 2012
Publikationsform Druckschrift
Publikationsart Zeitschriftenartikel
Sprache Englisch
Letzte Änderung 16.05.2019 19:45:03
Bearbeitungsstatus durch UB Rostock abschließend validiert
Dauerhafte URL http://purl.uni-rostock.de/fodb/pub/35414
Links zu Katalogen Diese Publikation in der Universitätsbibliographie Diese Publikation im GBV-Katalog

Autoren

Plappert, M.
Humbel, O.
Koprowski, A.
Nowottnick, Mathias Link zur UB Rostock Link zum GBV-Katalog

Einrichtung

IEF/Bereich Informatik