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Publikation: Zeitschriftenartikel

Formation of the Buffer Layer of Silicon Suboxides SiOx in the Si/SiO2 Low Dimensional Heterosystem after Si+ Ion Implantation

Grunddaten

Titel Formation of the Buffer Layer of Silicon Suboxides SiOx in the Si/SiO2 Low Dimensional Heterosystem after Si+ Ion Implantation
Untertitel Si L2, 3 X Ray Emission Spectra
Veröffentlicht in Physics of the solid state. - Moscow : MAIK "Nauka/Interperiodica
Erscheinungsjahr 2009
Seiten (von – bis) 2241 – 2246
Band 51
Heft-Nr. 11
Jahr 2009
Publikationsform Druckschrift
Publikationsart Zeitschriftenartikel
Sprache Englisch
Letzte Änderung 17.05.2019 12:06:18
Bearbeitungsstatus durch UB Rostock abschließend validiert
Dauerhafte URL http://purl.uni-rostock.de/fodb/pub/39355
Links zu Katalogen Diese Publikation in der Universitätsbibliographie Diese Publikation im GBV-Katalog

Autoren

Zatsepin, D. A.
Panin, E. A.
Kaschieva, S.
Fitting, Hans-Joachim Link zur UB Rostock Link zum GBV-Katalog
Shamin, S. N.

Einrichtung

MNF/Institut für Physik (IfPH)