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Publikation: Zeitschriftenartikel
XPS analysis and valence band structure of a low-dimensional SiO 2/Si system after Si+ ion implantation
Grunddaten
Autoren
Einrichtung
Grunddaten
Titel
XPS analysis and valence band structure of a low-dimensional SiO 2/Si system after Si+ ion implantation
Veröffentlicht in
Physica status solidi / A. - Weinheim : Wiley-VCH
Erscheinungsjahr
2011
Seiten (von – bis)
1658 – 1661
Band
208
Heft-Nr.
7
Jahr
2011
Publikationsform
Druckschrift
Publikationsart
Zeitschriftenartikel
Sprache
Englisch
Letzte Änderung
17.05.2019 12:49:24
Bearbeitungsstatus
durch UB Rostock abschließend validiert
Dauerhafte URL
http://purl.uni-rostock.de/fodb/pub/39734
Links zu Katalogen
Autoren
Zatsepin, D. A.
Mack, P.
Wright, A. E.
Schmidt, B.
Fitting, Hans-Joachim
Einrichtung
MNF/Institut für Physik (IfPH)