Zur Seitennavigation oder mit Tastenkombination für den accesskey-Taste und Taste 1 
Zum Seiteninhalt oder mit Tastenkombination für den accesskey und Taste 2 
Startseite    Anmelden     
Sommer 2024    Hilfe  Trennstrich  Sitemap  Trennstrich  Impressum  Trennstrich  Datenschutz  Trennstrich  node1  Trennstrich  Switch to english language
Studentisches Leben Veranstaltungen Einrichtungen Räume und Gebäude Personen Forschung

Publikation: Zeitschriftenartikel

Ionized vapor deposition of antimicrobial Ti-Cu films with controlled copper release

Grunddaten

Titel Ionized vapor deposition of antimicrobial Ti-Cu films with controlled copper release
Veröffentlicht in Thin solid films : international journal on the science and technology of condensed matter films. - Amsterdam [u.a.] Elsevier
Erscheinungsjahr 2014
Seiten (von – bis) 389 – 394
Band 550
Heft-Nr. 1
Jahr 2014
Publikationsform Druckschrift
Publikationsart Zeitschriftenartikel
Sprache Englisch
Letzte Änderung 16.05.2019 21:26:35
Bearbeitungsstatus durch UB Rostock abschließend validiert
Dauerhafte URL http://purl.uni-rostock.de/fodb/pub/43317
Links zu Katalogen Diese Publikation in der Universitätsbibliographie Diese Publikation im GBV-Katalog

Autoren

Stranak, V.
Wulff, H.
Ksirova, P.
Zietz, Carmen
Drache, S.
Cada, M.
Hubicka, Z.
Bader, Rainer Link zur UB Rostock Link zum GBV-Katalog
Tichy, M.
Helm, C. A.
Hippler, R.

Einrichtung

UMR/Orthopädische Klinik und Poliklinik (OUK)