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Publikation: Zeitschriftenartikel

Formation of Ge-0 and GeOx nanoclusters in Ge+-implanted SiO2/Sithin-film heterostructures under rapid thermal annealing

Grunddaten

Titel Formation of Ge-0 and GeOx nanoclusters in Ge+-implanted SiO2/Sithin-film heterostructures under rapid thermal annealing
Veröffentlicht in Applied surface science : a journal devoted to applied physics and chemistry of surfaces and interfaces. - Amsterdam [u.a.] : Elsevier
Erscheinungsjahr 2015
Seiten (von – bis) 780 – 784
Band 349
Jahr 2015
Publikationsform Druckschrift
Publikationsart Zeitschriftenartikel
Sprache Englisch
Letzte Änderung 14.01.2016 15:44:29
Bearbeitungsstatus durch UB Rostock abschließend validiert
Dauerhafte URL http://purl.uni-rostock.de/fodb/pub/48675
Links zu Katalogen Diese Publikation in der Universitätsbibliographie Diese Publikation im GBV-Katalog

Autoren

Zatsepin, A. F.
Zatsepin, D. A.
Zhidkov, I. S.
Kurmaev, E. Z.
Fitting, Hans-Joachim Link zur UB Rostock Link zum GBV-Katalog
Schmidt, B.
Mikhailovich, A. P.
Lawniczak-Jablonska, K.

Einrichtung

MNF/Institut für Physik (IfPH)